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專家詳解真空鍍膜機晶格的均勻性

  在20世紀50年代我國就已經研制成功,蒸發鍍膜設備的品種繁多,有用于鍍制光學薄膜的光學鍍膜設備,主要用于,用于裝飾裝潢、陶瓷玻璃,五金電器,電子器等各行各業。下面我們看看專家是怎么說真空鍍膜機晶格均勻性的問題。

  晶格有序度的均勻性決定了薄膜是單晶、多晶、非晶,這也是濺控濺射鍍膜機真空鍍膜技術中的熱點問題。它可以分為兩類。

 ? ?厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看,真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在。?

  化學組分上的均勻性也就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。

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